主要应用于诸如高端IC制造投影光刻机曝光光学系统等高复杂度、极限精度光学系统的研制，其突出特点是光学元件的全频段表面形貌制造精度需达到深亚纳米量级。国际上仅有Zeiss、Nikon等极少数国际顶级光学公司掌握此类技术。 团队所研制的国内首套NA0.75ArF曝光光学系统Epolith A075已成功交付用户，实现了整机曝光分辨率85nm的理想结果（国家科技重大专项02专项核心任务）。 适用：IC 制造装备、医用显微光学、高端投影显示。
可全天时探测高压电气设备早期绝缘损伤放电，具有损伤预警与定位功能，适用于高压绝缘损伤的早期探测与风险预警。 研发团队连续承担多个863计划等国家项目，牵头完成了日盲紫外辐射标定平台（溯源中国计量院）、高性能国产日盲紫外面阵探测器和滤光片、全国产日盲紫外成像仪的研制攻关任务，使我国日盲紫外探测技术全面跨入国际先进行列。 适用：发/输/变/配电网络、电气化铁路/地铁、高压科研。
