邮件登录
面向IC光刻投影光学系统的超精密光学技术
超精密光学系统集成与装调技术

系统集成与装调是精密光学系统研制的核心关键技术之一。对于IC光刻投影物镜,光学元件装配间隔误差、偏心误差需控制在±1μm以内。在此基础上,通过计算机辅助装调及系统级元件精修,最终达到波像差、畸变等像质指标。

团队基于光刻投影物镜超精密光学系统集成与装调技术攻关,建立了一整套精密光学系统的装配、测试、像质补偿流程,并能够通过综合优化,有效降低光学系统的制造成本。利用已有超精密光学系统装配技术及研发的高精度装配设备与工装,能够实现亚微米精度的位置公差测试和装配。

超精密光学系统像质补偿技术方面,针对国内首套NA0.75-ArF光刻投影物镜研制,依赖于精确的光学系统测量技术体系,充分发挥光学系统的补偿手段,在有效控制超高精度光学系统制造难度与成本的基础上,最终实现了物镜系统全视场平均波像差优于4nm,全视场平均畸变优于5.7nm的核心指标。

目前团队拥有健全的光学系统测试与装配仪器、装备,涵盖传递函数测试、应力双折射测试、激光光谱测试、镜片厚度测试、镜片位置测试与装调、材料均匀性测试、物镜系统波像差测试。配套满足超精密装配需求的无尘室,洁净度等级最高达到100级(ISO CLASS 5),温度稳定性最高达到±0.02℃,精密隔振系统能够将振动水平控制在VC-E水平,能够全面支撑超精密光学系统的集成、装调与测试。


未标题-1-11