超精密光机系统集成与装调是精密光学系统研制的核心关键技术之一。对于IC光刻投影物镜，光学元件装配间隔误差、偏心误差需控制在±1μm以内。在此基础上，通过计算机辅助装调及系统级元件精修，最终达到波像差、畸变等像质指标。

团队基于光刻投影物镜超精密光学系统集成与装调技术攻关，建立了一整套精密光学系统的装配、测试、像质补偿流程，并能够通过综合优化，有效降低光学系统的制造成本。利用已有超精密光学系统装配技术及研发的高精度装配设备与工装，能够实现亚微米精度的位置公差测试和装配。

超精密光学系统像质补偿技术方面，针对国内首套N[**]0.75-[**]rF光刻投影物镜研制，依赖于精确的光学系统测量技术体系，充分发挥光学系统的补偿手段，在有效控制超高精度光学系统制造难度与成本的基础上，最终实现了物镜系统全视场平均波像差优于4nm，全视场平均畸变优于5.7nm的核心指标。

目前团队拥有健全的光学系统测试与装配仪器、装备，涵盖传递函数测试、应力双折射测试、激光光谱测试、镜片厚度测试、镜片位置测试与装调、材料均匀性测试、物镜系统波像差测试。配套满足超精密装配需求的无尘室，洁净度等级最高达到100级（ISO CL[**]SS 5），温度稳定性最高达到±0.02℃，精密隔振系统能够将振动水平控制在VC-E水平，能够全面支撑超精密光学系统的集成、装调与测试。