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高端光学镜头
光刻投影物镜


光刻机是IC制造产业的心脏,而光刻投影物镜作为光刻机的核心,决定着芯片线宽的大小,并被称作工程光学领域的明珠。

长春国科公司自2009年起,承担国家科技重大专项02专项中NA0.75光刻投影物镜的研制任务,目前该光刻物镜已经在整机上进行测试,即将开展曝光实验。


参数名称

参数值

中心波长

193.368nm

缩小倍率

-0.25±1.0ppm

像方视场

26mm×10.5mm

像方数值孔径

0.5—0.75(连续可调)

全视场均方根波像差

≤4nm

畸变

≤6nm


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