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02专项“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目顺利通过专项任务内部验收
发布时间: 2018-01-02

2017年12月23日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(以下简称02专项)实施管理办公室在长春国科精密光学技术有限公司组织召开了“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目的专项内部任务验收会。

“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目是02专项核心任务光刻机项目群的核心攻关项目,也是难度、复杂度最高的项目之一。该项目以浸没式光刻机应用为目标,开展高NA浸没式曝光光学系统关键技术研究,并研制一套面向90nm节点的NA0.75 ArF光刻曝光光学系统工程样机,从而为未来高NA浸没式光刻曝光光学系统的研发奠定技术、装备与人才基础。

该项目于2009年7月正式启动,由中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院光电研究院等三家国内技术优势单位联合承担。

项目验收会现场

(项目验收会现场)

专家组现场考察

(专家组现场考察)

本次专项任务验收会议专家组由9名委员组成,02专项咨询专家委员会主任/国家外专局原局长马俊如担任专家组组长。国家科技部原副部长/02专项光刻机工程指挥部曹健林总指挥、02专项技术总师叶甜春所长、02专项实施管理办公室顾瑾栩处长、中科院重大任务局信息海洋处李才兴处长、长春光机所贾平所长、上海光机所陈卫标副所长、中科院光电研究院王宇院长、整机单位上海微电子装备(集团)股份有限公司的用户代表、项目/课题负责人及主要研发骨干等共计四十余位领导、专家参加了本次验收会议。

项目首席科学家杨怀江汇报项目

(项目首席科学家杨怀江研究员做项目汇报)

专家组认真听取项目汇报

(专家组认真听取项目汇报)

在组长马俊如先生的主持下,验收专家组认真听取了项目首席科学家杨怀江研究员及课题负责人黄惠杰研究员、隋永新研究员、苗二龙研究员等关于项目及课题任务完成情况的汇报,02专项特聘专家/项目测试专家组组长马振宇先生的现场测试报告,以及用户单位上海微电子装备(集团)股份有限公司技术副总监段立峰博士的NA0.75光刻机曝光光学系统工程样机测试验证报告,审阅了任务验收资料并进行了现场考察和质询讨论。

曝光系统2

在项目汇报报告中,首席科学家杨怀江研究员凝练了研发工作所取得的主要成果为,(1)通过引入系统工程理念,建立了面向高复杂度超精密光学系统工程研发的矩阵式组织架构与任务运行模式;(2)全面突破了复杂照明系统设计、照明光瞳整形、照明光场均匀化及校正、深紫外激光脉冲监测、超精密光学系统协同设计、超精密光学元件制造与检测、超精密机械制造与检测、超高精度物镜结构/机构设计、集成与装调等关键技术;(3)研制了含非球面光学元件的NA0.75光刻投影物镜系统及照明系统,经整机曝光工艺验证测试获得了优于85nm光刻分辨率的优异结果,突破了制约我国高端光刻机发展的核心技术瓶颈,填补了国内空白,为我国高端光刻机发展的重要里程碑;(4)在NA1.35浸没式光刻曝光光学系统光学设计、偏振照明模式产生、照明光瞳偏振参数检测、折反式物镜典型光学元件制造技术验证、曝光光学系统产业化发展等方面的研究工作满足任务合同验收要求。

围绕本项研发任务,研发团队累计申请了发明专利337项(其中国际发明专利26项),授权156项,软件著作权1项;建立了高NA照明系统研发平台、超精密光学系统协同设计平台、超精密光学元件制造平台、超精密光学元件检测平台、物镜系统光机装调平台;培养了一支以80后优秀硕士/博士为主体超过200人的超精密光学工程专业研发团队,其中曝光光学系统研发核心骨干人员已于2017年转入长春国科精密光学技术有限公司,后续研发工作全部转入企业化运行。

会议专家组一致认为,该项目圆满完成了任务合同书规定的各项研究工作,取得的研究成果达到了任务合同书规定的考核要求和考核指标,为后续浸没曝光系统研制和产业化打下了坚实的技术、装备及人才基础。会议专家组一致同意该项目通过专项任务内部验收。

会议认为,该项目通过了专项内部任务验收,标志着我国已具备了自主研制超精密光学系统的技术能力,表明我国高端光刻机研制已初步形成了一个完整的研发技术体系。

会议要求,转制后的研发团队要认真面对在企业平台上开展工作的新挑战,应认真总结前期成功研发经验,积极创建面向市场的产业化研发与生产能力,全力做好28nm节点ArFi光刻机曝光光学系统研制、110nm节点KrF曝光光学系统产品批量化生产任务,为我国建设具有国际竞争力的高端精密光学企业奠定基础。

该项目将在近期由02专项实施管理办公室组织专项正式验收。